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机译:LHD随机层和HL-2A刮削层中边缘杂质传输的研究
M. Kobayashi; S. Morita; C.F. Dong; Y. Feng; S. Masuzaki; M. Goto; T. Morisaki; H.Y. Zhou; H. Yamada; Experiment Group LHD; Z.Y. Cui; Y.D. Pan; Y.D. Gao; J. Cheng; P. Sun; Q.W. Yang; X.R. Duan;
机译:LHD随机层和HL-2A刮除层的边缘杂质迁移研究
机译:LHD随机层和HL-2A刮削层的边缘杂质传输研究
机译:HL-2A刮除层中碳源的迁移研究,杂质源位于限幅器,穹顶和分流器上
机译:AB INITIO对Fe / Cr / Fe三层CPP运输的研究:过渡金属杂质的影响
机译:识别HSX边缘的螺旋刮除层结构和传输特性。
机译:AsxS100-x纳米层中相干光的光修饰质量传输效应和表面浮雕形成:吸收边缘XPS和拉曼光谱结合轮廓分析法
机译:LHD边缘随机层杂质输运的数值研究
机译:奥氏体钢的热化学边缘层处理工艺包括将杂质原子插入基材边缘层中,并进行边缘层改性
机译:奥氏体钢的热化学边缘层处理的方法包括通过在富含间隙原子的气体气氛中与基底材料接触,将杂质原子插入基底边缘层
机译:多层吸垫,例如食品部门,具有不透液体的基础层,以及在彼此面对的两个边缘处提供的连接层,其中覆盖边缘的连接层被粘在一起或与边缘焊接在一起
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